在半导体制造过程中，光刻曝光技术是非常重要的步骤。由于光刻机光路中存在很多非常微小的影响因素，例如光幕的纠偏问题，可能导致半导体芯片的一些特性受到影响，因此保证光幕纠偏效率是非常重要的。

以下是提升光幕纠偏效率的几种方法：

1. 定期检查光系统设备的维护状况

定期检查光系统设备是否存在异常，考虑更换或维修系统中可能已损坏的组件。应该采取在日常操作中尽可能减少设备的损坏风险的举措。例如，必须随时保持光路清洁，避免灰尘和其他物质进入光学元件等等。

2. 设置合适的环境条件

生产车间的温度和相对湿度值应该稳定在一个合适的范围内，因为这些因素对光幕的精度影响很大。建议使用空气调节设备或加湿器来维持恒定的温度和湿度。

3. 定期校准光幕

进行定期光幕定标是保持光幕纠偏效率的好方法之一。一般的定标方法是比较光束走过所需路径和光束实际行驶的距离，从而计算出每个点的位置偏差。 定期进行光幕校准可以帮助检测系统可能存在的偏差，从而使系统恢复到设计精度。

4. 定期更换光幕

光幕也是保持光幕纠偏效率的关键部件之一。长时间使用后，光幕表面的损伤或启动的污垢将使纠偏效率降低。定期对光幕进行更换可以避免出现此问题并恢复生产效率。

通过以上几种方法，可以使光幕纠偏效率更高，从而在半导体制造过程中保证终产品的质量和性能。